荷兰首相罗布·耶滕正在直接向美国总统川普交涉，希望阻止华盛顿进一步收紧对晶片设备造商ASML的出口限制。

据《彭博》报导，耶滕24日（周四）表示，他已经多次与川普以及美国国会议员讨论《硬体技术管制多边协调法案》（MATCH），并强调保护半导体产业的重要性。

「我非常有信心，我们最终能够达成一项对各方都可行的协议。」耶滕说。

争议的核心，是美国是否会进一步扩大对中国获取先进晶片制造设备的限制。

目前美国国会正在推动的《MATCH法案》，可能进一步限制美国盟友向中国出口先进晶片制造设备。如果相关措施落实，所有ASML浸润式深紫外曝光机（immersion DUV）对华销售都将受到影响。

这意味着美国对华晶片设备限制可能进一步从最先进极紫外曝光机（EUV），向更多DUV设备延伸。

ASML是全球唯一能够生产EUV曝光机的企业，也是欧洲市值最高的公司之一。其EUV设备从未获准出口中国，荷兰政府也已经对部分先进DUV设备实施出口限制。

耶滕认为，荷兰已经对ASML实施严格出口管制，在继续保护敏感技术的同时，也需要考虑本国半导体产业的利益。

他表示，保护荷兰晶片产业「不仅符合我国利益，也符合美国以及更广泛利益」，同时强调相关限制需要保持平衡。

对ASML而言，中国仍然是一个重要市场。今年第二季，中国占ASML系统销售净额14%，较第一季19%有所下降。

因此，《MATCH法案》不只是美荷之间关于出口管制尺度的讨论，也牵动ASML在中国市场能够销售哪些设备。

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