2026年09月09日（优分析／产业数据中心报导）⸺ 半导体载具厂家登(3680-TWO)今（9）日跳空攻上573元涨停，主要催化剂来自台积电与ASML宣布合作推动12吋High-NA EUV光罩，市场看好家登凭借既有认证及光罩载具技术，提前卡位下一世代商机。

为何High-NA需要12吋光罩？

现行High-NA EUV因采用特殊光学设计，单次曝光范围只有传统EUV的一半。制造大型AI晶片时，可能需要使用两张6吋光罩并进行拼接，不只影响生产效率，也增加制程复杂度。

台积电与ASML因此计划将光罩由现行6吋放大至12吋，让单一光罩涵盖完整曝光范围，预期可提高设备生产力、降低制造成本。

家登双轨布局，认证优势成为焦点

家登目前已推出新世代High-NA EUV Pod。公司表示，这是全球唯一通过ASML认证的High-NA EUV光罩载具，并已送样主要客户。

面对High-NA技术演进，家登采取双轨布局：

• 持续升级现行6吋光罩载具，包括跨国运送防护能力更高的Phase 2版本。
• 配合12吋光罩规格，开发新一代大尺寸光罩载具。

由于High-NA光罩对洁净度、防尘、防污染及运送稳定性的要求更高，相关载具的单价与毛利率也有机会高于既有产品。家登在现行EUV Pod市场已具领先地位，有利于争取下一世代客户认证。

短期看6吋产品，12吋商机仍在早期

虽然今日股价直接反映12吋光罩题材，但相关营收不会立刻大幅出现。

依目前规画，High-NA EUV初期仍会沿用6吋光罩；12吋光罩预计2031年前后建立试产线，并朝2033年量产应用推进。因此，家登近年的实际成长动能，仍以现行EUV Pod、Phase 2升级版及先进制程客户扩产为主。

整体而言，家登今日涨停，市场交易的是公司已取得High-NA认证优势，又提前卡位12吋大尺寸光罩载具。但后续仍要区分两条时间线：现行High-NA Pod可望较早贡献营收；12吋光罩则是2030年后的长期成长选项。

未来观察重点包括客户认证进度、High-NA设备实际导入数量，以及12吋载具能否顺利由研发走向量产。

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