多家外媒报导，瑞银最新研究指出，中国微影制程技术仍明显落后艾司摩尔 (ASML)，未来10年内不太可能推出足以取代极紫外光 (EUV) 微影设备的产品。不过，中国在浸润式深紫外光 (DUV) 微影设备上的进展较快，最快2至5年便可能具备大规模生产能力。

为突破西方半导体设备出口管制，中国由国家主导，在深圳秘密推动国产EUV微影设备研发，并打造出原型机。这项国家级秘密工程因动员规模庞大、战略重要性高，被外界称为中国版「曼哈顿计划」。

瑞银的评估意味，中国短期内仍难以突破最先进晶片的生产瓶颈，但在成熟及部分先进制程设备上，对进口产品的依赖可望逐步下降。

ASML ADR (ASML-US) 周二随大盘收跌 1.82%，报每股 1,665.14 美元，盘中最低下探 1,651.21 美元，最高触及 1,683.74 美元，成交量约 90.57 万股，低于平均成交量约 185.27 万股。

中国EUV进度约相当于ASML 2004年

以Francois-Xavier Bouvignies为首的瑞银分析师团队，检视中国在光源及雷射子系统等领域的专利活动后认为，中国目前的EUV技术成熟度，大致相当于ASML在2004年的发展阶段。

ASML直到约15年后才开始大规模生产EUV设备。瑞银据此推估，中国未来10年内仍难以开发出具商业可行性、足以取代ASML的EUV设备。

瑞银也指出，即使中国成功推出自制EUV设备，其良率与产能效率仍可能落后ASML，加上监管限制，相关设备不太可能在中国以外市场广泛部署。

浸润式DUV最快2至5年量产

相较于EUV设备，中国在浸润式DUV领域的追赶速度更快。瑞银预估，中国可望在2至5年内建立大规模制造能力，但由于外界难以掌握设备实际效能，以及中国半导体供应链的完整程度，这项预测仍存在不确定性。

浸润式DUV虽然不及EUV先进，仍是晶片制造的重要设备，利用光线将精细电路图案转印至矽晶圆。ASML每台浸润式DUV设备售价接近9,000万美元，EUV设备单价则超过2亿美元。

荷兰出口管制面临时间压力

ASML是全球唯一能够生产先进EUV微影设备的公司。受到美国主导的出口限制影响，该公司不得向中国出售EUV系统。

荷兰政府也自2024年9月7日起，将NXT:1970i与NXT:1980i等浸润式DUV设备纳入出口许可管理；更先进的NXT:2000i及后续机型，原本就受到荷兰政府管制。

然而，若中国在2至5年内实现浸润式DUV设备量产，荷兰目前最具实际影响力的出口管制工具，可能在中国缩小EUV技术差距前便逐渐失效。

ASML执行长Christophe Fouquet曾于2024年表示，以国家安全为由限制设备出口的说法越来越难成立，相关措施背后带有经济考量。

中国市场仍牵动ASML营运

中国积极投入国家资金扶植本土半导体产业，希望降低对外国技术的依赖，但先进设备出口限制仍持续拖慢其发展。

另一方面，中国也是ASML的重要市场，2025年第三季占公司净销售额42%。ASML先前已警告，中国业务今年可能大幅下滑。

不过，ASML第一季仍缴出88亿欧元净销售额及28亿欧元净利，全年营收财测维持在360亿至400亿欧元。该公司股价周二在阿姆斯特丹下跌1.6%。

瑞银的分析显示，中国要追上全球最尖端的EUV技术仍有一段距离，但在浸润式DUV设备方面，进口替代的时间可能比外界预期更近。对欧洲而言，真正需要关注的不只是中国何时追上EUV技术，还包括现有出口管制的影响力能维持多久。

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